关于荷兰禁运中芯光刻机的真实情况及其他

楼主:银河护卫队20000 时间:2019-11-14 07:23:58 点击:11907 回复:103
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  一、禁运是假。
  首先爆料的是一家日本媒体《日经亚洲评论》,11月7日说ASML决定暂时中止向中芯国际交付EUV光刻机,原因可能是“担心刺激到美国”。
  ASML和中芯都发表声明回复:没这样的事。
  小日本搅局之心昭然若揭。


  二、中芯暂时用不上EUV
  光刻机光源分四代:
  可见光:g线:436nm
  紫外光(UV),i线:365nm
  深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm
  极紫外光(EUV),10 ~ 15 nm
  实际上台积电,三星,英特尔,中芯的设备是一样的,都是第三代DUV光刻机(193nm深紫外沉浸式光刻机)。然后各自修炼,用FinFET技术,多重光罩的办法极尽所能地压榨这台机器的潜能。
  目前台积电能做到7nm
  三星英特尔10nm
  中芯14nm。
  台积电独揽100% 7nm芯片订单。三星眼红,想弯道超车,2018年引入并不成熟的EUV光刻机生产7nm制程,结果由于废品率太高,搞砸了高通的订单,高通不得已转头还找台积电的DUV7nm.
  中芯目前正在做的,就是学台积电,沿用成熟的DUV193nm深紫外沉浸式光刻机继续10nm,7nm地爬。
  从中芯的声明可以看出一些东西:“极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段,未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前,研发与生产的连结一切正常,客户与设备导入正常运作。”

  三、非要用EUV光刻机吗?
  理论上EUV具有更短的波长,下一步的5nm,3nm制程应该用得上。但目前是不成熟的,有一大堆的问题没解决:衍射,漏电等等。
  台积电2017年为抢占7nm市场,就继续用DUV,效果很好。英特尔有工程师甚至认为DUV延伸到3nm没问题。
  EUV不是必须品,但可以节省光罩费用和生产时间。据说DUV7nm制程需80-90个光罩,改EUV的话只需60个左右。
  不要盯着光刻机,那个人更重要
  说的是中芯联席CEO梁孟松, 他是公认的芯片界的“大牛“,浸润式光刻机镜头就是他发明的。曾在台积电工作,为台积电立下了汗马功劳。后去了三星,迅速帮助三星提高了芯片工艺,甚至一度超过台积电的工艺,并拿下了苹果的部分A9芯片订单。
  而在2017年底,这位“大牛”离开三星,回国加盟中芯国际,而后一年半左右,中芯国际从28nm的工艺,直接迈入了14nm的芯片工艺。
  梁孟松就像一高级厨师,EUV、DUV是两把刀,哪些肉要快刀,哪些肉要厚刀,他最清楚。中芯目前的重点在于多培养优质厨师,这个还需要约5-8年。

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作者:tj222 时间:2019-11-14 07:44:04
  好!
  • liuxu0000001: 举报  2019-11-14 14:01:44  评论

    中芯加油
  • 龙头牛二: 举报  2019-11-15 14:19:49  评论

    实际上台积电,三星,英特尔,中芯的设备是一样的,都是第三代DUV光刻机(193nm深紫外沉浸式光刻机)。然后各自修炼,用FinFET技术,多重光罩的办法极尽所能地压榨这台机器的潜能。 目前台积电能做到7nm 三星英特尔10nm 中芯14nm。
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作者:过年2008 时间:2019-11-14 07:49:42
  中芯加油
作者:okluo 时间:2019-11-14 07:52:10
  学习了
作者:信仰加护 时间:2019-11-14 08:04:47
  要没仔细看ID都懒得进来了
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作者:maomidandan 时间:2019-11-14 08:05:58
  加油
楼主银河护卫队20000 时间:2019-11-14 08:12:50
  21c 最缺的是人才。
  熬过2021,芯片基本卡不住土鳖;拖到2025,土鳖一马平平
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作者:缺德大师2019 时间:2019-11-14 08:14:09
  有深度的好文,不顶都不行
作者:一笑而过3j 时间:2019-11-14 08:23:11
  我们挣钱的是房地产公司/人家的是科技公司
  我们的CEO是资本家/人家的CEO是技术大牛
  这才是差距的根本所在
  改变需要时间
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作者:林时编 时间:2019-11-14 08:46:38
  荷兰这个撮尔小国也敢造次,抵制荷兰,不买他们的光刻机。。。
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作者:故都旧梦 时间:2019-11-14 08:55:08
  老梁这样的人才,无论如何都要留住啊
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作者:武侠虫 时间:2019-11-14 09:05:16
  哦?是这个样子滴?
作者:北京王abc 时间:2019-11-14 09:06:19
  顶起
作者:jsstss 时间:2019-11-14 09:51:16
  顶~~~
作者:李仁瑞2015 时间:2019-11-14 10:34:50
  台湾的芯片工艺,世界领先,微电子技术也能独步全球,大陆要是能把台湾的工业体系整合进来,对中国工业进步相当有利。
  • 妖人满湖: 举报  2019-11-14 10:46:22  评论

    光刻机你咋整合?你就一长工,农具是荷兰专有的、种子、肥料也靠别人,我整合了你,家具、种子、肥料你又带不过来,你的作用又有多大?天底下又不缺你这样的长工,比亚迪、中芯们一大堆,去掉了你所依附的别人的东西,你比前者强到哪去?
  • 李仁瑞2015: 举报  2019-11-14 12:27:22  评论

    评论 妖人满湖:威胁荷兰人,不卖光刻机,我们自己搞,还有,把荷兰卖给中国的产品,以非关税手段挤出中国市场。
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作者:业余一级 时间:2019-11-14 10:36:45
  从我从幼儿园逻辑课上学来的逻辑知识来讲,如果他们有一招能杀死我们,早就出招了,何必搞这么多虚招。当他们真通共吗?
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作者:揭瓦装天线 时间:2019-11-14 10:41:46
  多培养人才!多多的培养!
  • ty_等待黎明307: 举报  2019-11-14 13:37:41  评论

    评论 揭瓦装天线: 人才才是第一要素。只要中国坚持继续尽可能培养更多的理工科人才,技术人才,工程师,只要在人才数量与质量上碾压美国,那么在科技上的突破与超越就是板上钉钉的事,美国再怎么搞更多的瓦森纳、砖森纳协议都无计可施。 千万别被公知精蝇文人们的“个性教育”忽悠!
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作者:retinoscopy 时间:2019-11-14 10:46:57
  有道理
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作者:鸿穹逸灵 时间:2019-11-14 10:51:10
  记住《梁孟松》
作者:路顺01 时间:2019-11-14 10:54:09
  28nm的光刻机,经过反复曝光处理,做到7nm是没问题的!台鸡店7nm的芯片,都是这种工艺!需要的是技术人员和经验,这是中国最欠缺的
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作者:akyyll 时间:2019-11-14 11:07:32
  我们喊了几十年的5个现代化,其中最重要的人的现代化什么时候能实现呢?
  • 银河护卫队20000: 举报  2019-11-14 13:09:14  评论

    评论 akyyll:近二十三十年来,土共培养的人才少吗?你真以为世界第二是崩溃来的?
  • ty_等待黎明307: 举报  2019-11-14 13:50:43  评论

    人才才是第一要素。只要中国继续尽可能培养更多的理工科人才,技术人才,工程师,只要我们能在人才数量与质量上碾压美国,那么在科技上的突破与超越就是板上钉钉的事,美国再怎么搞更多的瓦森纳、砖森纳协议都无济于事。 关键时刻,中国千万别被公知精蝇文人们的“个性教育”之类的鬼话忽悠!
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作者:ty_114263941 时间:2019-11-14 11:12:03
  期望中芯出大器!
作者:喜看稻菽 时间:2019-11-14 12:06:05
  小淫虫,什么时候变脸了?
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作者:丰血2 时间:2019-11-14 12:20:49
  中国有电子束光刻机做军用领域的
作者:李仁瑞2015 时间:2019-11-14 12:29:38
  @akyyll 2019-11-14 11:07:32
  我们喊了几十年的5个现代化,其中最重要的人的现代化什么时候能实现呢?
  -----------------------------
  书中自有黄金屋,书中自有玉腰带,我国是应试教育,不是爱好型兴趣型教育,不能人尽其佬,物尽其用,读书的目的,不是为求知,而是为了好工作,门票,适应社会等级体系。
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作者:雨丝有点凉 时间:2019-11-14 12:32:52
  加强戒备,重点护卫。
作者:秦岭广缘皇柏栳 时间:2019-11-14 13:10:01
  胡润:时至今日,中国人工智能专利数量已经是世界第一]
  (观察者网讯 文/陈燕妮 编辑/尹哲)

  20年间,中国的人工智能知识产权领域经历了一个大爆发。

  11月13日,胡润研究院发布了《2019中国人工智能企业知识产权竞争力百强榜》,对500余家中国人工智能主流企业从综合强度、创新能力和技术成熟度三个维度进行定量评比。

  根据榜单统计,中国已经逐渐成为计算机视觉、自然语言处理、机器学习专利申请的主要来源国。截至2018年,中国企业在这三个领域的专利申请总量均居世界第一。

  胡润指出:“时至今日,中国人工智能专利数量已经是世界第一,美国的申请数量略低于中国位列第二,日本位列第三。”

  企业排行上,华为以100分的IP(Intellectual Property ,知识产权)竞争力位列榜首,腾讯凭借99.7分紧随其后,百度AI以94.5位列第三。此外,小米、阿里巴巴、海康威视、科大讯飞、搜狗、国家电网和好未来等位列前十。
  • 不败枭雄479: 举报  2019-11-15 15:59:46  评论

    小米、阿里巴巴、海康威视、科大讯飞、搜狗、国家电网的技术穿上中山装就是中国专利,这脑洞与无耻也是让人诧异。中国的局域网防火墙技术倒是十分存在的专利。
  • 秦岭广缘皇柏栳: 举报  2019-11-15 17:40:45  评论

    评论 不败枭雄479:端起碗吃饭 放下碗舔欧美 腹中没有二两墨 学人四处评历史 为你的同桌感到高兴 她没选择你真的太对了
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作者:秦岭广缘皇柏栳 时间:2019-11-14 13:13:28
  @李仁瑞2015 2019-11-14 10:34:50
  台湾的芯片工艺,世界领先,微电子技术也能独步全球,大陆要是能把台湾的工业体系整合进来,对中国工业进步相当有利。
  -----------------------------
  中芯国际产能接近满载:14纳米量产,中国区营收占比超六成
  2019-11-13 14:13:38
  (观察者网讯 文/吕栋 编辑/尹哲)

  11月12日晚,半导体制造大厂中芯国际公布2019年第三季度财报。

  财报显示,当季,中芯国际总营收8.165亿美元,环比增长3.2%,而上年同期为8.507亿美元。此外,该公司实现毛利1.698亿美元,环比增长12.3%;当期毛利率为20.8%,环比提升1.7个百分点。

  值得注意的是,三季度,中芯国际净利润为8462.6万美元,同比增幅达1014.8%。该公司在财报中指出,客户库存消化,产能利用率提高,先进光罩销售增加,其三季度经营业绩优于预期。

  不仅如此,中芯国际首次透露,第一代14nm FinFET已成功量产,四季度将贡献有意义的营收。另外,该芯片公司中国区营收占比达60.5%,当期整体产能利用率高达97%,接近满载。不过,财报中并没有提到7nm工艺等相关内容。

  财报发布后,中芯国际13日跳空高开,盘中一度涨逾8%,市值重新站上500亿港元。
楼主银河护卫队20000 时间:2019-11-14 13:40:24
  回楼上:
  人工智能分9大板块,美国6项第一,中国3项领先,其它,无论欧日,不入流。
  近几年中国的人工智能技术专到及论文世界第一,但总体落后美国。
  当然,以中国人的智商及政府支持,不用10年,会全面超越美弟。
  • akyyll: 举报  2019-11-17 11:31:22  评论

    老口号,三年感应超美。
  • 银河护卫队20000: 举报  2019-11-17 15:42:17  评论

    评论 akyyll :时问上夸张,时代产物。但不能否认结果正确,这不,川普不是急出尿来了?呵呵
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作者:千里草0113 时间:2019-11-14 14:10:03
  @路顺01 2019-11-14 10:54:09
  28nm的光刻机,经过反复曝光处理,做到7nm是没问题的!台鸡店7nm的芯片,都是这种工艺!需要的是技术人员和经验,这是中国最欠缺的
  -----------------------------
  用于28纳米芯片光刻机,不可能做出7纳米芯片来。因为光刻的芯片越小,要求的光源波长就越短。光刻机经历了直接光刻、掩膜式光刻、浸入式光刻、深紫外光刻、极紫外光刻这几个演化阶段。28纳米芯片制程用的是浸入式光刻机,由于光源无法达到足够短的波光,因此对7纳米芯片是无法光刻,这跟曝光多少次无关。但是能够光刻22-18纳米,尺寸再小就不行了。

  无论阿斯麦尔(ASML)卖不卖给中国最先进的极紫外光刻机(EUV),中国都必须尽早研制出具有自已知识产权的先进光刻机。否则说不准啥时候就会抽疯式的卡你的脖子。
  实际上,(武汉)光电国家实验室甘棕松教授团队在2016年另辟溪径就研制出超衍射极限光刻机的原理样机,光刻出最小9纳米线段。2019年4月甘棕松团队又进一步研制出工程样机。同时还研制出用于超衍射极限的光刻胶。这距离商用型量产机只有一步之遥。9纳米经过多次曝光是能够光刻7—5纳米芯片的。
  希望这一天早日到来。
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作者:123新手上路123 时间:2019-11-14 16:17:25
  中芯加油 !
  光电国家实验室甘棕松教授团队加油!
作者:丽春院的柳下惠 时间:2019-11-14 20:00:09
  学习
作者:bao1890 时间:2019-11-14 20:09:35
  中芯加油!顶
作者:bao1890 时间:2019-11-14 20:09:44
  中芯加油
作者:akyyll 时间:2019-11-15 11:05:52
  回去看看西游记。

  佛祖说东土多余人。
作者:tyfrank1103 时间:2019-11-15 14:42:29


  核心技术,还是要掌握在自己手里,被人卡脖子滋味不好受。。。

作者:三湖闲翁 时间:2019-11-15 15:57:18
  楼主真棒!
作者:半岛家乡 时间:2019-11-15 16:41:38
  看了ID。默默数一数进来顶帖
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作者:鹭岛老汉 时间:2019-11-15 18:04:18
  实际情况如何,其实大家也不清楚。 中国这么大,不能把希望寄托在一家公司或某一人身上。
作者:陕西青年1 时间:2019-11-15 18:11:54
  国货当自强,中芯国际加油!光电国家实验室甘棕松教授团队加油!
  • 123mnz: 举报  2019-11-15 18:31:55  评论

    放心,一个人的力量是有限的,不是神仙,就算是神仙,没有完善的配套,最主要的是土朗,也无济于事情,
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作者:chen900957 时间:2019-11-15 18:22:55
  好贴要顶
作者:少小未离家 时间:2019-11-15 18:50:55
  是不是要逼咱把光刻机也弄成白菜价?
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楼主银河护卫队20000 时间:2019-11-15 19:58:13
  回楼上:比如碳基芯片
作者:ty_等待黎明307 时间:2019-11-15 20:21:39
  楼主能不能解释下这神秘的“光罩”是啥,软件?硬件?工序?怎么做成的?
  • 银河护卫队20000: 举报  2019-11-16 01:52:17  评论

    光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上————(百度)
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作者:落非寒1 时间:2019-11-15 20:28:56
  芯片菜价来了!
作者:落非寒1 时间:2019-11-16 01:20:19
  会不会有诺贝尔奖潜质呢?虽然不稀罕。
作者:a125731227 时间:2019-11-16 09:54:42
  其实党也挺难的,不送人出去留学了呢,自己又培养不出来人才,,把人生出去留学了呢,出去的人又不回来

  原地转圈圈
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作者:中华必胜ABC 时间:2019-11-17 05:37:40
作者:风雨下江州 时间:2019-11-17 06:30:22
  中芯加油!
作者:修远索 时间:2019-11-17 06:46:02
  中芯牛逼!
作者:ccav102019 时间:2019-11-17 07:19:44
  买了别人的机器再挖了别人的人就想弯道超车。。。
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作者:两个人的誓言 时间:2019-11-17 08:10:25
  对于荷兰的光刻机黑狗不用叫了,中国和荷兰有联合研发光刻机的公司。
作者:zihudei1234 时间:2019-11-17 08:19:47
  梁孟松好像是台湾人
作者:QQ领航者 时间:2019-11-17 08:24:57
  这个够“专业”的了!
作者:风中吟曲 时间:2019-11-17 09:31:51
  等中国也自己生产,做到白菜价
作者:阳光鲜艳 时间:2019-11-17 09:47:17
  吹牛皮得行。
作者:hidis131 时间:2019-11-17 10:18:02
  男儿当自强,他禁运又如何,咱不能自己造吗?资本主义腐朽没落的地方造的东西能有好的?运来了也应该砸掉
作者:琴圣御清绝 时间:2019-11-17 12:16:59
  没仔细看id,准备进来开喷的,结果一看内容不对啊!还好先看了内容,不然误伤友军可就丢人现眼了!
作者:盛世中国统一2019 时间:2019-11-17 14:56:07
  打脸楼主,看一下专业文章
  光刻设备决定了晶圆的工艺能力,DEV光刻机工艺节点的极限是 10nm,EUV光刻机可望使工艺制程继续延伸到 7nm与 5nm。

  光刻是制作半导体线路的关键制程,决定了线路的精密度。光刻(lithography)设备是一种投影系统,这个设备由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成。在半导体制作过程中,光刻设备会投射光束,穿过印着图案的掩模及光学镜片,将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽,然后再进行沉积、蚀刻、掺杂,架构出不同材质的线路;此制程被一再重复,就能将数以十亿计的 MOSFET或其他晶体管,建构在硅晶圆上,形为一般所称的集成电路。

  半导体制程越先进,光刻设备便需要越精密复杂,包括高频率的激光光源、光掩模的对位精度、设备稳定度等等,集合了许多领域的最尖端技术。因此光刻机被誉为半导体产业皇冠上的明珠,具有高度的技术与资金门槛。能生产高端光刻机的厂商非常少,以荷兰ASML、日本Nikon、和日本Canon三大品牌为主。德国SUSS、美国MYCRO、以及中国部分品牌,能提供低端的接触式与接近式光刻机;上海微电子(SMEE)也已研制出中端投影式光刻机。但到 14nm及以下制程,目前只有阿斯麦的设备被晶圆业者用来投入量产,独步全球。


  光刻机的进化迭代

  产品价格高昂但技术领先,成为一线晶圆厂首选。阿斯麦推行部件外包与技术合作开发策略,专注于核心技术与客户需求。从 2000年后阿斯麦推出双工作台设备后,逐步占据市场统治地位,无论是设备的精度水平与工作效率均具有全球领先水平;尼康与佳能的自有研发比重高,牵制了产品规划的灵活性。在先进制程落后阿斯麦之后,目前最大的优势仅在于

  成本,许多同类机型价格是ASML的一半甚至更低。

  但是在逻辑及存储芯片所使用的先进制程中,设备能力与生产效率往往是晶圆业者的第一考量,所以尼康与佳能的销售机型,集中在 KrF或低阶的 ArF光刻机,用于在精度要求不高的制程,譬如LED与面板领域的投影光刻机,以及芯片封装使用的后道光刻机。由于毛利较高产品线被阿斯麦所掌控,这两家厂商只能缩减研发费用,尼康的设备能力已经落后阿斯麦一个世代,佳能的产品进度还要更慢。


  阿斯麦持续推动行业制程水平

  阿斯麦是光刻技术的重要推手。最早的光刻机采用接触式曝光,掩模直接贴在晶圆片上来进行曝光,容易有制程污染与掩模寿命问题;后来的接近式光刻机,利用气垫在掩模和硅片之间制造微小空隙,但也影响了成像精度。一直到 80年代的扫描投影曝光,利用光学镜头来调整距离与改善成像质量,才能做到微米(μm)以下的精度。阿斯麦在 1986时推出步进式(stepper)光刻机,提高掩模的使用效率与光刻精度,将半导体工艺制程向上提升一个台阶。

  同时在 2001年推出采用双工作台设备,大幅提高工作效率与精度,成为市占率大幅提升的关键。 2007年推出浸没式(湿式)系统,在原有光源条件下缩短光波波长,自此确立了在光刻设备的龙头地位。

  光刻机的光源是核心, EUV是下一代光刻的利刃。光刻机使用的光源有几项要求:

  有适当的波长(波长越短,曝光的特征尺寸就越小),同时有足够的能量,并且均匀地分布在曝光区。

  实现光刻进步的直接方法,是降低使用光源的波长。早期的紫外光源是高压弧光灯(高压汞灯),经过滤光后使用其中的 g线(436 nm)或 i线(365 nm)。其后采用波长更短的深紫外光光源,是一种准分子激光(Excimer laser),利用电子束激发惰性气体和卤素气体结合形成的气体分子,向基态跃迁时所产生激光,特色是方向性强、波长纯度高、输出功率大,例如 KrF (248 nm)、 ArF(193 nm)和 F2(157 nm)等。使用 193nmArF光源的干法光刻机,其光刻工艺节点可达 45nm,采用浸没式与光学邻近效应矫正等技术后,其极限光刻工艺节点可达 28nm。


  主流光刻机的关键组成

  首创双工作台,大幅提升生产效率。在 2000年前光刻设备,只有一个工作台,晶圆片的对准与蚀刻流程都在上面完成。公司在 2001年推出的 Twinscan双工作台系统,是行业的一大进步,使得光刻机能在一个工作台进行曝光晶圆片,同时在另外一个工作台进行预对准工作,并在第一时间得到结果反馈,生产效率提高大约 35%,精度提高 10%以上。双工件台系统虽然仅是加一个工作台,但技术难度却不容小觑,对工作台转移速度和精度有非常高的要求。阿斯麦的独家磁悬浮工件台系统,使得系统能克服摩擦系数和阻尼系数,其加工速度和精度是超越机械式和气浮式工件台。


  双工作台光刻设备的构造示意图

  浸没式光刻与二次曝光提升工艺能力,填补 EUV问世前的演进缺口。浸没式光刻是指在镜头和硅片之间增加一层专用水或液体,光线浸没在液体中曝光在硅晶片圆上;由于液体的折射率比空气的折射率高,因此成像精度更高。从而获得更好分辨率与更小曝光尺寸。

  2002年业界提出了 193nm浸入式光刻的设备规划,由于 193nm的光谱在水中的折射率高达 1.44(折射率越高,蚀刻精度也越好),等效波长缩短为 134nm,设备厂商只需对现有设备做较小的改造,就能将蚀刻精度提升 1-2个世代。阿斯麦首先推出 193nm的浸没式设备,效果优于 157nm光源的设备,成功将 90nm制程提升到 65nm,彻底打败选择干式蚀刻路线的尼康与佳能,是行业格局的重要转折。

  到了 2010年后,制程工艺尺寸进化到 22nm,已经超越浸没式 DUV的蚀刻精度,于是行业开始导入两次图形曝光工艺,以间接方式来制作线路;即不直接曝光管线部分,而是先曝光出两侧管壁,间接形成线路区域。两次曝光虽然能制作比光源精度更高的集成电路,但副作用是光刻次数与掩模数量大增,造成成本上升及生产周期延长,所以波长更短、精度更高的光源,才是提升制程能力的关键。对于使用浸没式+两次图形曝光的 ArF光刻机,工艺节点的极限是 10nm。 EUV光刻机可望使工艺制程继续延伸到 7nm与 5nm。


  浸没式光刻与二次图形曝光示意图

  阿斯麦 EUV独步全球,

  是近期核心驱动

  半导体行业目前最大的瓶颈,在于摩尔定律的实现成本越来越大,制程微缩不再伴随晶

  体管单位成本同步下降。在从 32/28nm节点迈进 22/20nm节点时,由于光刻精度不足,需使用二次曝光等技术来实现,设备与制作成本双双提高,晶体管的单位成本首次出现不降反升。

  业界将希望寄托在极紫外光(EUV)微影技术,期望 EUV设备的高精度,能帮助厂商减少光刻的工序,提高 7nm以下的晶圆量产性。 2013年阿斯麦 EUV光刻设备研发成功,光源波长 22nm,技术逐步推进, 2017年的设备已采用最小 13nmEUV作为光源,超短波长使 7nm以下特征尺寸曝光得以实现。随着业界制程走向了 10nm以下,需要更高级的 EUV光刻系统,全球只有阿斯麦的 NXE系列能够满足需求。

  EUV工艺聚集了多个领域的顶尖技术。 EUV要具备量产性,有几个技术瓶颈必须克服;首先在光源上。极紫外光的波长为 13.5nm,这种光容易被包括镜头玻璃内的材料吸收,所以需要使用反射镜来代替透镜;普通打磨镜面的反射率还不够高,必须使用布拉格反射器(Bragg reflector,一种复式镜面设计,可以将多层的反射集中成单一反射)。

  此外,气体也会吸收 EUV并影响折射率,所以腔体内必须采用真空系统。为了解决 EUV的光源问题,2012年 10月,阿斯麦斥资 19.5亿欧元,收购其关键的光学技术提供商 Cymer,加速极紫外光(EUV)相关技术的开发。公司 2017年的 EUV设备 NXE 3400B,成功提高光源功率与精度,实现约 13纳米的线宽,并且采用磁悬浮系统来加速掩模及工作台,预期吞吐量可达每小时 125片晶圆,微影迭对(overlays)误差容许度在 3纳米以内。
  在以往 DUV时期,需要以多重光罩才能实现的 7nm制程,新型 EUV系统可望只要单一光罩步骤就可完成;但在 5nm或以下的制程,还会面临多次图形曝光的问题,仍需要提高下一代 EUV设备在光源以外的能力。为此,公司在 2016年以 11亿美元收购光学大厂蔡司(CarlZeiss)的 24.9%股份,并承诺 8.4亿美元的研发投入,联手研发数值孔径(numericalaperture, NA)高于 0.5的镜头。第二代 EUV微影预计要到 2024年后量产,届时计划实现约 8纳米的线宽,每小时处理 185片晶圆,迭对误差容许度小于 2纳米。

  阿斯麦此次大手笔投资蔡司进行共同开发,显示阿斯麦对于下一代 EUV设备的必胜决心。巨头导入 EUV的进程不一,设备需求能延续 3年以上。全球半导体产业在进入 7nm制程世代之后,可望是台积电、三星电子、格罗方德三强对决局面。 2012年,三星和台积电分别向阿斯麦注资 5亿和 15亿欧元,以加强与公司的战略合作;

  根据调研机构 Anandtech所汇集的各家路线图,台积电是最快到达 7nm工艺制程的厂商。台积电对外宣布,针对高速运算市场,量身打造人工智能与数据分析专用的平台,预估 2018年 H1就具备 7nm量产能力;紧接着在 2019年的第二代 7nm,导入阿斯麦的 EUV设备,并有望同年试产 5nm制程产品。其他厂家方面,三星则决定在 2018年第一代的 7nm就直接让 EUV技术上线;格罗方德则承袭IBM技术自行研发 7纳米,同样预计 2018年下半年量产,但第一代是使用DUV,而导入 EUV需要到 2019年。 Intel则因成本考虑,要到 2021年才开始用 7nm工艺接替 10nm制程。
  整体而言,公司在 2017Q3单季营收 18亿欧元,前三大产品线为ArF(63%), EUV(21%), KrF(10%)。 3D NAND客户对于 KrF干式光刻系统的需求持续升高,目前相关设备的未出货订单已累积超过 20台,显示出公司由中端到高端的产品均居市场领导地位。,

  但是精度与效率不具备 10nm以下制程的生产效益;直到 2016年后的 3400B,光学与机电系统的技术有所突破,极紫外光源的波长缩短至 13nm,每小时处理晶圆 125片,或每天可1500片;连续 4周的平均生产良率可达 80%,兼具高生产率与高精度。随着芯片尺寸不断缩小, EUV设备未形成行业刚需,目前全球一线的逻辑晶圆与存储晶圆厂商,均采购阿斯麦 TWINSCAN机型,其中英特尔、三星、台积电三大巨头,纷纷入股阿斯麦,以谋求其高端光刻设备共同开发与优先应用。

  由于公司的浸没式 EUV光刻设备,能帮助客户实行量产 7nm和 5nm的晶圆制程,并达到 2.5纳米的迭对精度,未来出货量可观。 2017年上半年,公司售出 2台 EUV设备, Q3单季度倍增到 4台;预计 Q4还有 6台交付,带来 3亿欧元单季收入,计划 2018与 19年均可出售超过 20台。


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作者:快乐南京 时间:2019-11-17 15:37:45
  粘

  
作者:快乐南京 时间:2019-11-17 15:48:18
  祖国加油!我们在工地努力工作尽我微力为你添砖加瓦。
作者:孤狂 时间:2019-11-17 16:40:28
  光刻机我们自己造
作者:XRH9339 时间:2019-11-17 17:02:25
  禁运背后有黑手,这是肯定的,况且ASML也需要美德等的技术支持
作者:衿仪 时间:2019-11-17 17:48:45
  光刻机技术突破比芯片设计要难吧
作者:vgkgdv 时间:2019-11-17 20:28:01
  赶快出来便宜点
作者:荒之城 时间:2019-11-18 07:32:25
  台积电、ASML这些公司根本不存在比中国先进的技术
  禁运光刻机是个伪命题
  参考埃及金字塔、古希腊文明、美国登月、旅行者二号造假
作者:荒之城 时间:2019-11-18 07:39:39
  台积电、ASML这些公司根本不存在比中国先进的技术
  禁运光刻机是个伪命题
  参考埃及金字塔、古希腊文明、美国登月、旅行者二号造假
作者:荒之城 时间:2019-11-18 09:09:21
  台积电、ASML这些公司根本不存在比中国先进的技术
  禁运光刻机是个伪命题
  参考埃及金字塔、古希腊文明、美国登月、旅行者二号造假
作者:fooc 时间:2019-11-18 09:55:49
  我自己刻都能刻出来
作者:18269070609 时间:2019-11-18 22:09:10
  楼主威武 大牛威武 中国威武????!
作者:不敢当不敢当 时间:2019-11-18 23:40:53
  例如李登犯了邪淫,被上苍削去了他状元宰相的福分。又如宜兴县有位木材富商,企图犯淫,设计夺人之妇,结果黑虎现身,咬去其脑袋。命中应该富贵的,因犯了邪淫,也要削尽富贵、沦为贫贱;何况福分浅薄之人,其下场更是狼狈不堪
  人若犯了罪过,寿命即被鬼神削夺。其中犯邪淫是夺寿最厉害的
  若犯邪淫,便是抛损祖父相传的血脉,这是最忤逆不孝的。因为邪淫会败害家声、断绝祭祀,在阴间的祖先也因此成了没供养的饿鬼了,他们岂能不恨
作者:大国复兴2019 时间:2019-11-18 23:49:39
  官员强健幼女,中国特色

  
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作者:不敢当不敢当 时间:2019-11-19 13:42:51
  佃户曹二的媳妇,极为凶横泼辣,动不动就呵风骂雨,责辱鬼神。她和邻里乡亲有一句话不合,她就掀起袖子露出胳膊,拿着两根捣衣棒,呼叫跳跃像头母老虎,要跟人家拼命,所以谁也不敢去惹她。有一天,她乘着阴雨天出去偷人家的麦子。忽然狂风大作,雷电交加。接着如鹅蛋大的冰雹猛落下来,她被砸伤倒地。这时大风忽然卷来一个能装五斗粮的大笆斗,正好落在她跟前。她急忙把笆斗扣在头上,才幸免不死。这难道是老天也怕她蛮横不成?
  有人说:“这泼妇虽然暴虐凶横,但侍奉婆婆却很孝顺。每当她和别人争斗时,她婆婆出来呵斥制止,她便服服帖帖地随婆婆回家。有时候婆婆被她气极了,狠狠地打她一个嘴巴,她便跪下来认错谢罪。”可见她遇难不死是有原因的。正如孔子说的:“孝道,这可是天经地义的事呀。”难道为人可以不孝顺么!
作者:春哥雷人 时间:2019-11-19 20:53:38
  中国人这么健忘,8年怎么反证哦
作者:akyyll 时间:2019-11-20 23:26:21
  你要不要读书?

  你到底要读多少书?

  想读些什么书?

  读书有用吗?

  读书无用吗?

  小青年儿,

  要读书,

  书中自有黄金屋。

  安得广厦千万间

  不知有你的几铢?

  小青年儿,

  快读书。

  书中自有千钟黍。

  转了基因变了态。

  你是人来还是猪?

  小青年,

  忙读书。

  书中车马多如簇。

  阔宅豪车多如箭。

  代步车马只靠足!

  小青年儿,

  宅读书。

  娶妻生子书为媒。

  范进七十能中举!

  等到白发享清福。

  谁写诗写得最多。谁的书读的多?刘项原来不读书。我要不要读书?

  中青年,要读书。现在有点忙空了再写。
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