感应耦合等离子体刻蚀机供应商市场前景如何?-创世威纳

楼主:创世威纳  时间:2019-12-10 13:36:38
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感应耦合等离子体刻蚀的原理

以下是创世威纳为您一起分享的内容,创世威纳专业生产感应耦合等离子体刻蚀,欢迎新老客户莅临。

感应耦合等离子体刻蚀法(Inductively Coupled Plasma Etch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的RF 射频作用下,这些等离子体对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,从真空管路被抽走。

感应耦合等离子体刻蚀机的结构一

预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度,不受外界环境(如:粉尘、水汽)的影响,将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

以上就是为大家介绍的全部内容,希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多感应耦合等离子体刻蚀的知识,欢迎拨打图片上的热线联系我们。

感应耦合等离子体刻蚀机的结构三

创世威纳专业生产、销售感应耦合等离子体刻蚀,我们为您分析该产品的以下信息。

供气系统供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体,通过压力控制器(PC)和质量流量控制器(MFC)精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。

以上就是关于感应耦合等离子体刻蚀的相关内容介绍,如有需求,欢迎拨打图片上的热线电话!

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